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                原子層沉積技術的工作原理

                文章出處:互聯網 責任編輯:東莞艾德新材料科技有限公司 發表時間:2022-04-27
                  
                 

                原子層沉積是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的,這種方式使每次反應只沉積一層原子。

                原子層沉積技術是將要參與反應的前驅物藉由不同的前驅物導管,如圖 1 所示,一次只通入一種 前驅物的方式,依序地將前驅物導引至反應腔體。 并藉由基材表面飽和化學吸附,一次只吸附一層前 驅物,過多的前驅物及副產物將由鈍氣 Ar 或N2沖洗 (purge) 帶走,以達自我限制。

                一個基本的原子層沉積循環包括四個步驟:

                1. 第一前驅物將被導引至基材表面,化學吸附的過 程直至表面飽和時就自動終止。

                2. 鈍氣 Ar 或N2 及副產物。注入,沖洗帶走過多的第一前驅物。

                3. 第二前驅物注入,并和化學吸附于基材表面的第一前驅物反應生成所需薄膜,反應的過程直至吸附于基材表面的第一前驅物反應完成為止。 注入,沖洗帶走過多的第二前驅物。

                4. 鈍氣 Ar 或N2 及副產物。

                這種反應過程:第一前驅物注入、沖洗、第二前驅物注入、沖洗,稱之為一個循環 (cycle)。而一個循環所需的時間即是第一、二前驅物的注入時間加上兩個沖洗時間的總和。因此整個反應的時間便是循環數乘以一個循環的時間。

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